Optisches Element zur Reflexion von Euv-Strahlung, Euv-Lithographiesystem und Verfahren zum Versiegeln einer Lücke

WO2021037508 Art A1 4. März 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021037508
Aktenzeichen: EP20753715
Anmeldetag: 5. August 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06G03F1/38G03F1/48G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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