Optisches Element und Euv-Lithographiesystem

WO2021037515 Art A1 4. März 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021037515
Aktenzeichen: EP20754211
Anmeldetag: 6. August 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G21K1/06G03F7/20G02B1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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