Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie

WO2021089579 Art A1 14. Mai 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021089579
Aktenzeichen: EP20801236
Anmeldetag: 4. November 2020
Veröffentlichung: 14. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/00G02B7/00G02B7/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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