Vorrichtung und Verfahren zur Messung von Substraten für die Halbleiterlithografie

WO2021099242 Art A1 27. Mai 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021099242
Aktenzeichen: EP20808063
Anmeldetag: 16. November 2020
Veröffentlichung: 27. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/84G02B7/38G02B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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