Optisches Element und Lithographiesystem

WO2021115643 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021115643
Aktenzeichen: EP20765263
Anmeldetag: 2. September 2020
Veröffentlichung: 17. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C03C3/06B23K26/00C03C15/00C03C17/22G02B13/00G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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