Projektionsbelichtungsgerät für Halbleiterlithografie

WO2021115789 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021115789
Aktenzeichen: EP20812320
Anmeldetag: 25. November 2020
Veröffentlichung: 17. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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