Vorrichtung und Verfahren zum Temperieren von Elementen in Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen

WO2021239299 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021239299
Aktenzeichen: EP21716982
Anmeldetag: 30. März 2021
Veröffentlichung: 2. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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