Adaptives Optisches Element für die Mikrolithographie

WO2022074023 Art A1 14. April 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022074023
Aktenzeichen: EP21790117
Anmeldetag: 6. Oktober 2021
Veröffentlichung: 14. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/08G01K7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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