Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithographie und Grundkörper eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithographie

WO2022106214 Art A1 27. Mai 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022106214
Aktenzeichen: EP21807015
Anmeldetag: 4. November 2021
Veröffentlichung: 27. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B5/10G02B7/18G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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