Feldfacettensystem und Lithographieanlage

WO2022112071 Art A1 2. Juni 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022112071
Aktenzeichen: EP21819051
Anmeldetag: 17. November 2021
Veröffentlichung: 2. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/09G02B17/00G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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