Verfahren zum Einrichten eines Projektionsbelichtungssystems, Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem für die Mikrolithographie
WO2022156875
Art A1
28. Juli 2022
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022156875
- Aktenzeichen
- EP21701097
- Anmeldetag
- 19. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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