Verfahren zum Einrichten eines Projektionsbelichtungssystems, Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem für die Mikrolithographie

WO2022156875 Art A1 28. Juli 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022156875
Aktenzeichen
EP21701097
Anmeldetag
19. Januar 2021
Veröffentlichung
28. Juli 2022
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands B.V.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen