Verfahren zum Abscheiden einer Deckschicht, Reflektives Optisches Element für den Euv-Wellenlängenbereich und Euv-Lithographiesystem

WO2022263061 Art A1 22. Dezember 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022263061
Aktenzeichen: EP22728527
Anmeldetag: 10. Mai 2022
Veröffentlichung: 22. Dezember 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/24C23C16/455G02B1/14G02B5/08G02B5/10G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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