Optisches System, Lithographievorrichtung und Verfahren

WO2023079148 Art A1 11. Mai 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023079148
Aktenzeichen
EP22813287
Anmeldetag
7. November 2022
Veröffentlichung
11. Mai 2023
Rechtsraum
WO
IPC
B81B7/00G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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