Verfahren zum Abscheiden einer Deckschicht, Euv-Lithographiesystem und Optisches Element

WO2023088630 Art A1 25. Mai 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023088630
Aktenzeichen: EP22803010
Anmeldetag: 19. Oktober 2022
Veröffentlichung: 25. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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