Verfahren zum Erzeugen einer Lokalen Dickenänderung einer Beschichtung, Spiegel und Euv-Lithographiesystem

WO2023099308 Art A1 8. Juni 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023099308
Aktenzeichen: EP22821509
Anmeldetag: 23. November 2022
Veröffentlichung: 8. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B1/12G21K1/06G02B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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