Euv-Lithographiesystem mit einem Gasbindenden Bauteil

WO2023147925 Art A1 10. August 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023147925
Aktenzeichen: EP22835779
Anmeldetag: 15. Dezember 2022
Veröffentlichung: 10. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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