Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie

WO2024013177 Art A1 18. Januar 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024013177
Aktenzeichen: EP23741040
Anmeldetag: 11. Juli 2023
Veröffentlichung: 18. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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