Spiegelelement, Lithographieanlage und Verfahren zum Bereitstellen eines Spiegelelements

WO2024099675 Art A1 16. Mai 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024099675
Aktenzeichen
EP23790558
Anmeldetag
12. Oktober 2023
Veröffentlichung
16. Mai 2024
Rechtsraum
WO
IPC
G02B5/08G02B5/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen