Lithographieanlage und Verfahren zum Betreiben einer Lithographieanlage

WO2024213632 Art A1 17. Oktober 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024213632
Aktenzeichen: EP24720041
Anmeldetag: 11. April 2024
Veröffentlichung: 17. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G01D5/24G02B5/08G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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