Werkstück mit einer Hohlstruktur, Verfahren zum Zumindest Teilweisen Bilden einer Hohlstruktur, Spiegel und Lithographiesystem

WO2024235427 Art A1 21. November 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024235427
Aktenzeichen: EP23726384
Anmeldetag: 12. Mai 2023
Veröffentlichung: 21. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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