System und Verfahren zur Verwaltung der Nebenproduktansammlung in einer Strahlungsquelle

WO2024240433 Art A1 28. November 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024240433
Aktenzeichen: EP24721634
Anmeldetag: 23. April 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von