Verfahren und Vorrichtung zur In-Situ-Messung der Temperatur eines Wafers im Vakuum

WO2025002699 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025002699
Aktenzeichen: EP24730277
Anmeldetag: 28. Mai 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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