Spiegelsystem, Verfahren zum Betreiben eines Spiegelsystems und Projektionslinse einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung

WO2025002739 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025002739
Aktenzeichen
EP24732178
Anmeldetag
5. Juni 2024
Veröffentlichung
2. Januar 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen