Verfahren zum Bereitstellen eines Prozessgases für einen Cvd-Reaktor und Diesbezügliche Vorrichtung

WO2025002900 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025002900
Aktenzeichen: EP24733940
Anmeldetag: 18. Juni 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448C23C16/455F17C13/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von