Fotolackstrukturierung in Nanovertiefungen mit mehreren Tiefen

WO2025006431 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: Illumina, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025006431
Aktenzeichen
EP24743570
Anmeldetag
25. Juni 2024
Veröffentlichung
2. Januar 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/00B01J19/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Illumina, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Illumina

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in San Diego, Kalifornien, führender Hersteller von Systemen zur DNA-Sequenzierung und Genanalyse.

1.155 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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