Objekthalter, Objekttisch, Optisches Element und Verfahren zur Steuerung der Flachheit einer Oberfläche und deren Verwendung in einem Lithographischen Verfahren oder Gerät

WO2025008207 Art A1 9. Januar 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025008207
Aktenzeichen: EP24733238
Anmeldetag: 21. Juni 2024
Veröffentlichung: 9. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/687G02B5/08G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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