Reinigungsverfahren für Prozesskammer und Halbleiter-Prozessvorrichtung

WO2025021019 Art A1 30. Januar 2025

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025021019
Aktenzeichen: EP24844711
Anmeldetag: 19. Juli 2024
Veröffentlichung: 30. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

488 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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