Dispersion, Herstellungsverfahren dafür und Kosmetikum
WO2025023121
Art A1
30. Januar 2025
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025023121
- Aktenzeichen
- EP24845500
- Anmeldetag
- 17. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61K8/04A61K8/19A61K8/31A61K8/34A61K8/37A61K8/58A61K8/891A61K8/894A61Q17/04A61Q19/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München