Electrostatic chuck with high-density plasma barrier coating

WO2025024263 Art A1 30. Januar 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025024263
Aktenzeichen: EP24846260
Anmeldetag: 19. Juli 2024
Veröffentlichung: 30. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/44C23C16/455C23C16/40H01L21/683H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von