Hebestiftanordnung zum Laden/entladen eines Substrats, Objekttisch, Lithografische Vorrichtung
WO2025026649
Art A1
6. Februar 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025026649
- Aktenzeichen
- EP24738320
- Anmeldetag
- 4. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven