Verfahren und System zur Erzeugung eines Overlay-Toleranten Maskenmusterentwurfs

WO2025036637 Art A1 20. Februar 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025036637
Aktenzeichen: EP24743388
Anmeldetag: 15. Juli 2024
Veröffentlichung: 20. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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