Method for removing photoresist on wafer, and semiconductor process device

WO2025040070 Art A1 27. Februar 2025

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025040070
Aktenzeichen: EP24855793
Anmeldetag: 20. August 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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