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Dongjin Semichem Patente

🇰🇷 Südkorea

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

456
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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456 gesamt
Patent
08.04.2004
Photoresist Remover Composition
Optik & Fototechnik
09.10.2003
Thinner composition for removing photosensitive resin
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
08.05.2003
Positive photoresist composition for liquid crystal device
Optik & Fototechnik
01.05.2003
Photosnesitive Resin Composition Comprising Quinonediazide Sulfate Ester Compound
Optik & Fototechnik
27.02.2003
Photosensitive resin composition for photoresist
Optik & Fototechnik
26.02.2003
Verfahren zur Steuerung eines Ätzprozesses für Metallschichten und Regenerieren des Ätzmittels für einen Ätzprozess für Metallische Schichten auf der Grundlage eines Spektrometers im Nahen Infrarotbereich
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.02.2003
Verfahren zur Steuerung eines Prozesses zur Fotoresistentfernung und Regenerierung einer Fotoresistentfernerzusammensetzung auf der Grundlage eines Spektrometers im Nahen Infrarotbereich
Optik & Fototechnik
28.11.2002
Resist Remover Composition
Optik & Fototechnik
28.11.2002
Resist Remover Composition
Optik & Fototechnik
28.11.2002
Resist Remover Composition
Optik & Fototechnik
27.12.2001
Photoresist Remover Composition Comprising Ammonium Fluoride
Optik & Fototechnik
20.12.2001
Photoresist Remover Composition
Optik & Fototechnik
01.11.2001
Resist Stripper Composition
Optik & Fototechnik
25.10.2001
Chemically amplified resist and a resist composition
Optik & Fototechnik
15.03.2001
Polymer for chemically amplified resist and a resist composition using the same
Optik & Fototechnik
01.03.2001
Photoresist Remover Composition
Optik & Fototechnik

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