Optisches Strahlführungssystem und Verfahren zur Kontaminationsverhinderung optischer Komponenten hiervon
EP1235110
Art A3
18. Februar 2004
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1235110
- Aktenzeichen
- EP02000932
- Anmeldetag
- 16. Januar 2002
- Veröffentlichung
- 18. Februar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B7/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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