Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage beinhaltend ein derartiges Projektionsobjektiv, sowie Verfahren zur Herstellung von Bauelementen mit Hilfe eines derartigen Projektionsobjektivs

EP1544676 Art A3 8. März 2006

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1544676
Aktenzeichen: EP04029279
Anmeldetag: 10. Dezember 2004
Veröffentlichung: 8. März 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B13/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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