Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage

EP1721219 Art A2 15. November 2006

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1721219
Aktenzeichen: EP05715516
Anmeldetag: 24. Februar 2005
Veröffentlichung: 15. November 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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