Katadioptrisches System für die Scatterometrie

EP2017662 Art B1 23. Juni 2021

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2017662
Aktenzeichen
EP08252443
Anmeldetag
17. Juli 2008
Veröffentlichung
23. Juni 2021
Erteilung
23. Juni 2021
Rechtsraum
EP
IPC
G02B17/08G02B17/04G01N21/47G02B27/00G02B21/04G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Holding N.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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