Lithographieverfahren und lithographische Vorrichtung
EP2073063
Art B1
2. März 2016
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands BV, ASML Holdings N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2073063
- Aktenzeichen
- EP08253937
- Anmeldetag
- 10. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 2. März 2016
- Erteilung
- 2. März 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Netherlands BV
ASML Holdings N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Weenink, Willem
NoneVeldhoven
-
van Os, Lodewijk Hubertus
NoneVeldhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Roberts, Peter David
NoneManchester