Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie, Projektionsbelichtungsvorrichtung, Projektionsbelichtungsverfahren und Optische Korrekturplatte

EP2188673 Art A1 26. Mai 2010

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2188673
Aktenzeichen: EP08784878
Anmeldetag: 18. Juli 2008
Veröffentlichung: 26. Mai 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von