Apparat und Verfahren zur Vorhersage eines Halbleiter-Parameters über Einenwaferbereich
EP2188832
Art B1
27. Februar 2019
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2188832
- Aktenzeichen
- EP08799001
- Anmeldetag
- 29. August 2008
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2019
- Erteilung
- 27. Februar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66G05B13/02G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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Kanzlei
Kancelaria Patentowa Lukaszyk
Gegründet 1992 in Chorzów bei Katowice, kurz nach Öffnung der privaten Anwaltstätigkeit in Polen. Verbindet juristische mit naturwissenschaftlich-technischer Expertise von Chemie und Pharmazie bis Gentechnik und Nanotechnologie und begleitet Patent- sowie internationale PCT- und EPA-Verfahren.
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FRKelly · Dublin