Eine Ionisierungskammer und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP2212685
Art B1
17. Mai 2017
Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2212685
- Aktenzeichen
- EP08851478
- Anmeldetag
- 17. November 2008
- Veröffentlichung
- 17. Mai 2017
- Erteilung
- 17. Mai 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N27/62G01N27/68H01J41/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NXP B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
NXP Semiconductors
Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.
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Weitere Vertreter
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Schwarzweller, Thomas
NXP Semiconductors Germany GmbH · Hannover
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Williamson, Paul Lewis
NoneEindhoven