Aufbringen Siliziumhaltiger Filme bei Niedrigen Temperaturen

EP2289093 Art B1 21. August 2013

Anmelder: Air Products and Chemicals, Inc., Tokyo Electron Limited 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2289093
Aktenzeichen
EP09759326
Anmeldetag
3. Juni 2009
Veröffentlichung
21. August 2013
Erteilung
21. August 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/205
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Air Products and Chemicals, Inc.
Tokyo Electron Limited
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Air Products

US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.

906 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

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