Euv-Prüfsystem mit Hohem Durchlauf zur Fehlererkennung auf Strukturierten Euv-Masken, Maskenrohlinge und Wafer
EP2443440
Art B1
27. November 2019
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2443440
- Aktenzeichen
- EP10790255
- Anmeldetag
- 18. Juni 2010
- Veröffentlichung
- 27. November 2019
- Erteilung
- 27. November 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/956G01N21/33G01B11/30H01L21/66H05K13/08// G03F1/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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Kanzlei
Kancelaria Patentowa Lukaszyk
Gegründet 1992 in Chorzów bei Katowice, kurz nach Öffnung der privaten Anwaltstätigkeit in Polen. Verbindet juristische mit naturwissenschaftlich-technischer Expertise von Chemie und Pharmazie bis Gentechnik und Nanotechnologie und begleitet Patent- sowie internationale PCT- und EPA-Verfahren.
422
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Patentanwälte
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FRKelly · Dublin