Pellikel für EUV Lithographie
EP2703888
Art B1
13. März 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2703888
- Aktenzeichen
- EP13182570
- Anmeldetag
- 2. September 2013
- Veröffentlichung
- 13. März 2019
- Erteilung
- 13. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F1/24G03F1/62G03F1/64
Abstract
A pellicle for EUV including a silicon film and a mesh work structure supporting the silicon film, and this pellicle is improved in that the grid frames of the mesh work structure are tapered in such a manner that the width of each grid frame lessens as the distance from the silicon film is increased.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Solf, Alexander
München, Deutschland
402
Patente gesamt
32
Fachgebiete
13
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Dr. Solf & Zapf Patent- und Rechtsanwalts PartG mbB
Dr. Solf & Zapf Patent- und Rechtsanwalts PartG mbB · Wuppertal
-
Patent- und Rechtsanwälte Dr. Solf & Zapf
Patent- und Rechtsanwälte Dr. Solf & Zapf · Wuppertal