Maske und Scanning-Projektions-Belichtungsverfahren für die Mikrolithographie

EP2798402 Art B1 24. November 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2798402
Aktenzeichen: EP11802444
Anmeldetag: 28. Dezember 2011
Veröffentlichung: 24. November 2021
Erteilung: 24. November 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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