Photonenquelle, Messgerät, Lithographisches System und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP2859410 Art B1 20. November 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2859410
Aktenzeichen
EP13724291
Anmeldetag
23. Mai 2013
Veröffentlichung
20. November 2019
Erteilung
20. November 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H05G2/00G01N21/956H01J65/04H01J61/02H01J61/54H05B41/38H05H1/24
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Optik & Fototechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
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