Systeme und Verfahren zur Verwendung Siliciumhaltiger Dotierstoffzusammensetzungen, zur Verbesserung eines Ionenstrahlstroms und der Leistung Während einer Siliciumionenimplantation
EP2891172
Art B1
30. Oktober 2019
Anmelder: Praxair Technology, Inc., Praxair Technology Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2891172
- Aktenzeichen
- EP13762931
- Anmeldetag
- 28. August 2013
- Veröffentlichung
- 30. Oktober 2019
- Erteilung
- 30. Oktober 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Praxair Technology, Inc.
Praxair Technology Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Praxair Technology
US-amerikanisches Unternehmen im Bereich Industriegase, das Verfahren und Technologien zur Gasproduktion entwickelt, heute Teil des Linde-Konzerns.
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