Adsorptionsmittel für Radioaktives Antimon, Radioaktives Jod und Radioaktives Ruthenium und Verfahren zur Verarbeitung von Radioaktiver Abfallflüssigkeit unter Verwendung des Adsorptionsmittels
Anmelder: Ebara Corporation, Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3396677
- Aktenzeichen
- EP16878377
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 31. Oktober 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01J20/06B01J20/28B01J20/281B01J20/02C01F17/235
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Ebara Corporation
Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
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Nippon Chemical Industrial ist ein japanischer Chemiehersteller mit Sitz in Tokio, der unter anderem anorganische Feinchemikalien und leitfähige Partikel produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie sowie Halbleiter- und elektrische Bauelemente. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.
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Wagner & Geyer wurde 1972 von Karl H. Wagner in München gegründet und fusionierte 1983 mit Dr. Ulrich F. Geyer. Neben Patenten begleitet die Kanzlei Designs, Gebrauchsmuster und Marken im internationalen Partnernetzwerk und berät traditionell eng mit japanischen Mandanten auf Deutsch, Englisch und Japanisch.