Bildung von Metalloxidschicht

EP3413333 Art B1 10. Juni 2020

Anmelder: NXP USA, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3413333
Aktenzeichen
EP18166149
Anmeldetag
6. April 2018
Veröffentlichung
10. Juni 2020
Erteilung
10. Juni 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NXP USA, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 NXP USA

US-amerikanische Gesellschaft des Halbleiterkonzerns NXP, die Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation und Industrieelektronik entwickelt.

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