Verfahren zur Messung eines Parameters eines Lithografischen Verfahrens, Metrologievorrichtung
EP3667420
Art A1
17. Juni 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3667420
- Aktenzeichen
- EP18212262
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2018
- Veröffentlichung
- 17. Juni 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01N21/47
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven